MIT开发新技术：让芯片自己组装自己 轻松实现7纳米

机器领域热门话题之一就是自组装（Self-Assembly），而且任何一项不需要人类进行干预的技术都受到了风投、媒体和公众的追捧。

归功于更高的生产工艺和更小的芯片尺寸，当代计算机设备已经变得非常小巧，然而生产工艺的改进不再大跨步式发展，当代的生产工艺已经非常接近于物理极限了。在未来的芯片生产中，自组装技术就有了用武之地。

雷锋网(公众号：雷锋网)获悉，由麻省理工大学（下文简称 MIT）和芝加哥大学组成的科研团队正在研发一项独特的自组装技术，从而在小尺寸芯片上填充更多的特征（features）。

自组装技术是持续 50 多年摩尔定律的延伸，在继续帮助缩小尺寸的同时降低计算机设备的成本。

在现有的芯片生产中，会使用多种现有成熟的工业方案在硅上蚀刻精密特征，而现在科研团队在芯片上绕了几圈自组装线缆，并配合使用「共聚物」（Block Copolymers）这种新型材料，对预定义的设计和结构进行扩展和自组装。

MIT 化学工程系教授 Karen Gleason 表示，部署此类自组装技术只需要在现有芯片生产技术上再增加一步。目前芯片生产过程中包含的一道工序是，利用长波长的光速在覆盖掩模的衬底上烧制电路图案。

目前芯片生产工艺已经进化至
10 纳米，在使用相同波长的情况下很难再填塞更小的晶体管。极紫外光刻（EUV）有望能够减少波长，帮助在多个芯片上蚀刻更精密的特征。EUV
技术有望在 7 纳米生产工艺中被广泛应用。即使投资了数十亿美元部署了 EUV，到真的生产出成品依然存在诸多挑战。

MIT 同时声称这项自组装技术可以非常轻松的融入到现有的生产技术中，不会产生任何附加难题。使用标准化光刻技术，共聚物材料能够存放在预先设定的表面图案上来创建线缆。共聚物拥有两种不同的聚合物，且像锁链一样连接在一起。

在此基础上使用名为化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）的生产工序，在共聚物上放置一层保护聚合物层。这样能够让共聚物自组装成多个垂直层。这有点类似于现在构建的 3D 晶体管。这项技术同时还能用于创建负责的自组装图形和层。

这项技术能够部署到 7 纳米生产工艺中。关于该项技术的论文本周发表在《Nature Nanotechnology》期刊上。

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